一则互动平台“出口光刻机”的回复引发苏大维格（300331.SZ）股价20CM涨停后再引来关注函。

　　9月14日午间休市期间，苏大维格在互动平台回复投资者“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时，公司向国内相关芯片光刻机厂商提供了定位光栅尺部件。”以及“已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局”。

　　正值光刻机概念火热阶段，当日下午，苏大维格开盘后迅速拉升，直至20%涨停，成交额达到15.55亿元，换手率高达25.89%。

　　质疑声也纷至沓来，有报道指称苏大维格的“光刻机”并非真正的热门光刻机，苏大维格的光刻机为激光直写光刻机，技术工艺和材料难度远低于可用于各类芯片的批量生产的掩模光刻。

　　中航证券研报表示，泛半导体光刻技术可分为直写光刻和掩模光刻。其中，直写光刻精度较低，多用于IC后道封装、低世代线平板显示、PCB等领域；掩模光刻目前主流形式为投影式，光刻精度高，可用于IC制造的前道工艺，后道先进封装，以及中高世代线的FPD生产。

　　9月14日晚间，苏大维格再在互动平台回复，明确表示公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机。

　　苏大维格解释了两种光刻机类型，并提到目前公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机，在科研教育领域具有一定市占率，在纳米压印光刻领域公司设备主要为自用，对外销售金额与直写光刻机相比较小；此外，公司也开发了投影扫描的光刻设备，拟应用于光伏电镀铜图形化领域，目前尚未实现销售。

　　虽然苏大维格迅速做进一步解释，但9月15日一早，苏大维格就收深交所关注函。监管要求苏大维格结合不同类型光刻设备的技术路线的差异，补充披露所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途等情况，并核实说明其光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术参数是否与业内龙头厂商存在较大差等。

　　此外，监管要求苏大维格详细说明纳米压印技术的具体用途、研发情况，以及在集成电路领域的布局情况险。按照要求，苏大维格需在2024年9月22日前回复关注函。

　　值得一提的是，关注函中所用概念为“光刻设备”并非“光刻机”。此前有报道注意到，苏大维格2024年半年报中表述和9月14日互动平台上表述相似，其中提到的也是“光刻设备”。半年报提到：公司光刻设备已向国内某芯片龙头企业实现销售，并向国内厂商提供应用于IC芯片投影式光刻机的核心部件定位光栅尺产品。

　　因此，业内人士指出将“光刻设备”直写“光刻机”是不专业行为，不排出是有意为之。

　　9月15日，苏大维格证券部对界面新闻记者表示，“光刻机”表述此前在半年报、年报中均有所采用，今年半年报中，公司也明确提到“公司是国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，通过自主研发微纳光学关键制造设备——光刻机”等，公司在年报、半年报、互动易平台对所涉光刻机、芯片光刻机等表述都是有明确定义的。

　　该人士进一步表示，目前也收到了交易所关注函，公司也将尽快尽快核对和积极回复。

　　二级市场方面，关注函难抵涨势，截至9月15日午盘，苏大维格继续大涨13.13%，报收37.47元/股，市值较9月13日猛涨25.66亿元，股价走出今年新高。