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　　光刻胶龙头，公布大消息

　　来源：上海证券报 

　　“好消息啊，我们一直在等待他家的新产能投产，现在供应的产品不够用。”11月5日，彤程新材披露光刻胶项目新进展，某晶圆厂人士如此评述。

　　11月5日晚间，彤程新材公告称，公司全资子公司上海彤程电子材料有限公司（简称“彤程电子”）在上海化学工业区投资建设年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目的工程阶段已竣工，目前已逐步进入试生产阶段。

　　年产300/400吨ArF及KrF

　　光刻胶产线进入试生产

　　根据公告，彤程电子上海化学工业区工厂占地36200平方米，设计能力年产1千吨半导体光刻胶、1万吨显示用光刻胶和2万吨高纯EBR试剂（光刻胶去边剂）。同时在国际国内半导体厂商及光刻胶厂商战略合作推动下，完成了产线优化及品控升级。

　　其中，在半导体光刻胶方面，彤程电子的年产300/400吨ArF及KrF光刻胶量产产线，通过采用超高纯PFA（涂层）设备、引入高精度物料流量控制系统、配以自研的高精度高效率光刻过滤系统，可以实现ppt级金属杂质及0.1um级别的颗粒管控，具备不同配方先进制程光刻胶的生产能力。

　　对此，有业内人士表示，年产300/400吨ArF及KrF光刻胶的产能算比较大了，彤程新材半导体光刻胶品类也较多，此次扩产产能可同时供应国内大部分芯片制造商，能较好地满足国内先进制程光刻胶的部分需求。

　　稳定供应国内头部芯片制造商

　　半导体光刻胶是备受市场关注的领域，彤程新材在半导体光刻胶领域实力如何？

　　在此次进展公告中，公司透露，在ArF光刻胶产品方面，公司已经完成ArF光刻胶部分型号的开发，首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品，已具备量产能力，目前处于量产前的光刻工艺测试及产品验证阶段，能否验证通过尚存在一定的不确定性。

　　在G线、I线及KrF光刻胶产品方面，彤程新材G线光刻胶已经占据国内较大的市场份额；I线光刻胶已广泛应用于国内6英寸、8英寸、12英寸集成电路产线，支持的工艺制程涵盖14nm及以上工艺。KrF光刻胶量产品种达20种以上，稳定供应国内头部芯片制造商。

　　此前，彤程新材在2024年半年报中披露，报告期内公司继续加大在半导体光刻胶方面的研发投入，新增研发立项48项，包括14个KrF光刻胶项目，26个I线光刻胶项目，8个新材料项目。新产品销售收入占比达到半导体光刻胶业务收入总额的41.36%。今年上半年，KrF光刻胶依然保持着较快的增速达到52.56%；I线光刻胶方面，ICA光刻胶开始放量，增长率达到96.82%。

　　在2024年年报中，彤程新材披露，截至2024年底公司共有22家12英寸客户，20家8英寸客户，8/12英寸客户的营收贡献率是公司半导体光刻胶业务营收贡献的主力。新产品方面，2024年公司共有68支新品通过客户验证并获得订单，新产品销售额在半导体光刻胶总收入中的占比达到40%，再创历史新高。

　　2024年，彤程新材新增21支新产品通过客户验证并获得订单，新产品销售额在半导体光刻胶总收入中的占比达到25.96%，创历史新高。产品序列方面，21支新品包括248nm（KrF）光刻胶10支、I线光刻胶9支、LED及先进封装用光刻胶2支，如国内首款248nm负性光刻胶DKN系列产品，高分辨I线光刻胶C7600系列产品及厚膜ICA光刻胶C9120系列产品。

　　彤程新材同时披露，为解决ArF光刻胶所需的高纯溶剂及国内先进工艺制程的需求，公司已经搭建完成高纯EBR装置，成为国内首家建有高纯EBR精馏塔设备及掌握高纯精馏技术的本土溶剂供应商。公司生产的EBR溶剂已达到G4等级规格，可满足国内40纳米以下工艺制程的芯片制造技术需求，年产2万吨的规模量产能力可有效满足国内先进制程需求。

　　公司预计第四季度将完成高纯度G5等级EBR的验证，目前已在国内几家先进芯片制造商中逐步推动产品验证。