来源：财联社

　　编辑/马兰

　　知情人士称，美国美光科技公司准备在日本广岛的工厂安装荷兰ASML公司的先进芯片制造设备EUV（极紫外光刻机），以制造下一代存储芯片（DRAM）。而其也将获得日本政府提供的约2000亿日元（15亿美元）的补贴。

　　日本经济产业大臣西村康稔之后证实了美光在日的进一步投资。他指出，日本政府正与台积电讨论扩大在日投资的可能性，美光也有意在广岛开始大规模生产先进记忆芯片。

　　而详细计划可能在今日（周四），日本首相岸田文雄会见美光首席执行官Sanjay Mehrotra在内的芯片高管代表团之后，正式宣布。

　　研究公司Omdia的分析师Akira Minamikawa表示，美光的广岛工厂将在G7半导体供应链计划雄心中发挥关键作用，这将成为美国公司发展的最重要地区之一。

　　自2013年以来，美光已经在日本投资超过130亿美元，其中包括去年宣布的1-β存储芯片。而最新的投资将帮助美光在日本生产所谓的1-γ芯片，这是美光计划在2024年底推出的更先进技术。

　　日本的产业雄心

　　美光新引入最先进的光刻机并开始1-γ芯片的开发，也代表着日本在芯片尖端领域的最新一步。

　　除了研发DRAM的美光之外，日本政府还花费数十亿美元鼓励台积电增加其在日本的芯片产能，并为日本本土芯片企业Rapidus提供资金，以实现在2027年生产2纳米芯片的梦想。

　　除了政府的财政支持之外，美光也将向日本工厂追加自有投资，但目前其尚未披露确切消息。此外，广岛市政府也可能提供额外的资源。

　　而由于芯片行业供应过剩，美光正在削减成本保留实力，但其认为2024年下半年可能会看到DRAM市场触底反弹。

　　美光此前曾表示将2024财年的资本支出预算同比削减30%至约80亿美元，其中晶圆厂设备资本支出同比将削减近50%。日本政府的财政补贴无疑是帮助美光购置新EUV设备，推动1-γ芯片进程的关键动力。